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Part I — 公司治理与商业秘密底盘

第 1 章 · 员工跨厂流动与商业秘密保护工作站

决策树清单模板下载案件时间轴

最后更新:2026-04-28


这个工作站给你什么

中国芯片企业的特殊现实让这一章成为 chip 一本通的第一章

GC 在这条线上每天都可能面对三种场景:

  1. :新员工入职 — 怎么过滤 + 隔离前雇主商业秘密的”污染”风险
  2. :员工离职 — 怎么留好证据 + 起码不让自己被起诉
  3. 被打:被前员工或竞争对手起诉 / DOJ 调查 — 怎么应对

下面四个工具对应这三个场景的全流程。

法律基础(先看一遍,再用工具)

美国侧

中国侧

跨境组合时的复杂性:一个工程师从中国 A 厂到美国 B 厂,可能同时受四组规则约束(中国劳动法 + 中国商业秘密法 + 美国 DTSA + 加州 UTSA)。这是 Micron v. UMC 当年最复杂的争议焦点之一 — 中国法院和美国法院对”商业秘密构成”的定义差异。

工具 1:风险自查决策树

回答几个问题,得到针对你当前情境的推荐动作。无需提交任何信息到服务器,纯本地运算。

工具 2:响应清单(交互式)

按时间块组织:当日 / 24-72 小时 / 30 天 / 30-180 天。每条 action item 可勾选,进度本地保存。

工具 3:可下载模板

下面是商业秘密 + 员工流动场景下需要的核心文档模板:

模板正在制作中,会在后续更新中替换为可下载的实际文件。

工具 4:行业案件时间轴

中国芯片产业重大商业秘密 / 员工流动相关案件:

案件起点关键节点教训点
2003TSMC v. SMIC离职工程师跨厂2009 和解 $2 亿 + 至多 10% 股权中国大陆代工龙头早期的奠基性案件
2017Micron v. UMC & Fujian Jinhua离职工程师跨厂三线作战六年;2020 UMC 认罪 $6000 万;2024 Jinhua 无罪三工具协同模型(民事 + 刑事 + 实体清单);同案被告命运分化
2018ASML v. XTAL(关联东方晶源)200 万行光刻软件源码盗窃2019 判赔 $8.45 亿史上最大半导体 trade secret 判赔之一
2017Hytera v. MotorolaDMR 离职工程师泄密2025 中方刑事认罪 $6000 万中国通信企业首次在美刑事 trade secret 认罪
2025韩国指控前 Samsung/SK hynix 工程师向 CXMT 泄密10 人涉案,10nm DRAM 工艺韩国《产业技术保护法》首例韩国本土执法模式 — 中方虽不是直接被告但是事实受益方

时间轴揭示的模式:

进一步协助

如果你正在处理离职 / 入职相关的疑似商业秘密风险,或想做内部商业秘密体系自查,可以联系我邮箱 [contact-placeholder]。


最后更新:2026-04-28。本章的案件时间轴 + 模板会随新事态持续更新。

🧭 风险自查决策树(交互工具)

回答几个问题,输出当前风险等级与推荐路径。无需提交任何信息到服务器,纯本地运算。

步骤 1

你目前面对的具体情境是什么?

📋 响应清单(交互工具)

勾选你已完成的动作。进度自动保存在浏览器本地。

进度:0 / 22 (0%)
当日(核心员工提出离职 / 新员工入职第一天)0 / 6
24-72 小时0 / 6
前 30 天0 / 5
30-180 天0 / 5

勾选状态保存在你的浏览器本地(localStorage),不上传到任何服务器。

📄 可下载模板

以下模板基于实战经验整理,仅供参考。具体使用需由律师按案件定稿。